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簡(jiǎn)要描述：M系列光束筆尖陣列光刻系統：聚合物筆無(wú)掩模光刻納米制造系統（polymer pen lithography）聚合物筆納米無(wú)掩模光刻制造系統PPL, 使用可達160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無(wú)需光掩膜，且在平方厘米范圍內達到200納米以下的分辨率。
產(chǎn)品型號： 廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2022-12-29訪(fǎng) 問(wèn) 量：1774產(chǎn)品分類(lèi)
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M系列光束筆尖陣列光刻系統主要特點(diǎn)：
- 高分辨率，可達低于100nm的分辨率；
- 高通量模式，可達160000針尖輸出制作結構；
- TERA-FAB M系列可制作厘米級材料尺寸；
- 無(wú)需掩模，即時(shí)性改變輸出機構，可廣泛適應軟質(zhì)和硬質(zhì)材料；
- 軟硬件友好，非專(zhuān)業(yè)人士可在幾小時(shí)培訓后，熟練使用。
A）一張4英寸的PPL陣列，有1100萬(wàn)支筆尖。
B）陣列內納米尺度彈性材料*的掃描電子顯微照片及內嵌圖像；
C）由PPL技術(shù)打印的多種蛋白示意圖。各針尖陣列蘸上不同的打印墨水（蛋白）；
D）熒光光學(xué)顯微圖的結果，PPL合成了多路熒光標記蛋白的圖案。
如需了解M系列光束筆尖陣列光刻系統詳情可搜索北京培科創(chuàng )新技術(shù)有限公司，或查看儀器信息網(wǎng)/分析測試百科網(wǎng)了解，期待您的垂詢(xún)！
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